真空镀膜

真空镀膜主要分蒸发镀膜、溅射镀膜、离子镀膜和化学气相沉积几种。真空镀膜栏目主要讲述了真空镀膜原理,真空镀膜工艺,真空镀膜设备等有关真空镀膜技术。

磁控溅射铁磁性靶材的主要方法
由于磁控溅射铁磁性靶材的难点是靶材表面的磁场达不到正常磁控溅射时要求的磁场强度,因此解决的思路是增加铁磁性靶材表面剩磁的强度。
合金膜的溅射沉积方法
为使溅射系统所用靶的数量减少,尽量用一个靶就能溅射沉积制取符合成分及性能要求的合金薄膜,可以采用合金靶、复合镶嵌靶、以及采用多靶溅射等。
非对称脉冲磁控溅射的工作原理
脉冲磁控溅射一般使用矩形波电压,由于所用的脉冲波形是非对称性的,因此得名为非对称脉冲磁控溅射。
磁控溅射光学膜均匀性改进
随着光通讯的发展,对光学薄膜的性能要求越来越高,这对镀膜机的均匀性提出更高要求。本文通过直接对镀膜机的夹具进行改进来改善均匀性。
反应磁控溅射的机理与特性
采用PVD方法制备介质薄膜和化合物薄膜,除了可采用射频溅射法外,还可以采用反应溅射法。即在溅射镀膜过程中,人为控制地引入某些活性反应气体,与溅射出来的靶材物质进行反应沉积在基片上,可获得不同于靶材物质的薄膜。
中频脉冲非平衡磁控溅射技术制备类金刚石膜的结构与性能
本文采用中频脉冲磁控溅射技术制备了类金刚石薄膜,研究了沉积气压对薄膜厚度、化学键结构、机械性能和光学性能的影响。
电弧离子镀TiN/Ti纳米多层膜的力学性能
本文在TiN涂层和多层结构的基础上,采用多弧离子镀方法制备TiN/Ti 多层膜,分析研究调制周期对其结构及其性能的影响。
(TiZr)N硬质膜的沉积工艺研究
本文主要研究(TiZr)N硬质膜的沉积工艺波动范围及影响??疾炝艘跫械缌?、N2气流量等工艺参数对膜层组织和性能的影响。
真空卷绕镀膜技术研究进展
本文从系统结构、参数控制和镀膜方式等综述了真空卷绕镀膜技术研究进展。
杆状氧化铍表面金刚石薄膜的生长
本文利用一种新型线形微波等离子源以CH4和H2为反应气体在杆状氧化铍陶瓷表面进行金刚石膜沉积,研究了基底预处理对金刚石形核密度和膜的连续性,以及基底温度对金刚石膜表面形貌和质量的影响。
硬质涂层抗热震性的研究方法与评价
本文对硬质涂层的热震性做详细的分析探讨,并通过分析热震损伤机制及表征方法,寻求提高硬质涂层抗热震性的途径和方法。
磁控溅射中电磁场分布二维模拟
本文采用计算机FORTRAN语言自主编程,通过建立通电线圈磁场的数学模型,对磁控溅射靶附近由通电线圈产生的磁场分布进行了二维数值模拟计算。
三种聚合物薄膜氦渗透率的测试
本文利用氦质谱检漏仪测量聚合物薄膜对He的整体漏率,根据菲克定律计算出聚合物薄膜对He的渗透率,并比较分析三种常用聚合物(PET,PDMS,PI)对He渗透率的大小。
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